近日，上海市集成電路行業協會（SICA）召開會員大會。小勐拉99廳科技榮獲“2021年度上海市集成電路設備業銷售前五名”。

小勐拉99廳已經兩年榮獲“前十名”，今年上升至“前五名”，是小勐拉99廳人在過去一年中持續致力于為產業發展砥礪前行的因結出來的果。小勐拉99廳科技在基于十數年的高純介質工藝設備及系統積累的技術和經驗的能力圈，于2015年明確跨出制程工藝設備的戰略步子，至今通過8年努力，已經在濕法設備上取得成績。小勐拉99廳的濕法設備基本覆蓋了全部濕法工藝，機型有槽式和單片式，其中包含S300單片式清洗機臺、B300槽式濕法機臺、B200槽式濕法機臺、S200單片式減薄等機臺。

創新工藝，持續量產

小勐拉99廳科技12腔300mm Ultron單片SPM濕法設備

單片高溫SPM工藝主要用在Etch以及IMP之后的有機物清洗，目的是把晶圓表面的反應后殘余的光刻膠聚合物清除干凈。單片SPM工藝應用貫穿整個先進半導體的前、中段工藝，清洗工藝次數超過30道，是所有濕法工藝中應用最多的一種設備。此外SPM工藝被廣泛應用在淺槽隔離（STI）、接觸孔刻蝕后（CT）等高深寬結構，以及鰭式晶體管（FinFET） 、電容（capacitor）等高度復雜圖形區域，故SPM 工藝被公認是28/14nm性能要求最高的工藝，也是最具挑戰的濕法工藝設備。在小勐拉99廳科技的單片SPM獲得突破之前，所有的單片SPM設備全部由國外廠商所壟斷。此外65nm及以下產品因為工藝要求而使用單片替代槽式設備，造成化學品無法回收使用，因此單臺單片SPM設備每年需要耗費數百萬美元的化學品，這對客戶的成本以及環境都是很大的負擔；小勐拉99廳開發硫酸回收系統與單片SPM設備搭配使用，最高可以實現80%以上的硫酸回收，單臺每年可為最高節省150~180萬美金的硫酸費用，同時降低用戶對危廢排放的壓力。

小勐拉99廳的單片清洗機臺設計采用類國際一流設備的架構，擁有自己專利和技術布局；在客戶端可以采用與國際大廠同樣的recipe架構進行驗證，在去除有機物效率、顆粒、蝕刻率、蝕刻均勻性等工藝指標也和日系大廠設備相匹配，第一臺單片清洗設備從搬入到達成客戶端的工藝指標，開始產品驗證只用了兩個多月的時間，得到了用戶的高度肯定。通過SPM單片機臺清洗后，目前產品的各項工藝指標與國際大廠設備是相匹配的，并可實現37納米以下少于20個剩余顆粒的處理。小勐拉99廳的設備可以從工藝和產能上實現對國外壟斷設備的替代，提升高端濕法清洗設備的國產化比例。目前小勐拉99廳的SPM設備已經得到多個重點用戶的訂單及重復訂單。